ZMM-550 driezijdig omgekeerdGoudmicroscoop

Gebruik van het instrument:

De ZMM-550 is eenvoudig te bedienen en volledig toegevoegd en wordt op grote schaal gebruikt in het onderwijs van wetenschappelijk onderzoek naar metafaasanalyse, halfgeleider siliciumchipdetectie, adresminerale analyse, precisie-technische meting en andere gebieden. De hoge nauwkeurigheid van de coaxiale scherpstelling van het scherpstellingsmechanisme met de onderste hand, links en rechts kunnen worden aangepast, de nauwkeurigheid van het scherpstellingsmechanisme is hoog, handmatige instelling is eenvoudig en gemakkelijk, en de gebruiker kan eenvoudig een helder en comfortabel beeld krijgen. De afmeting is 38 mm en de nauwkeurigheid is 0,002. Het grote mechanische mobiele platform maakt gebruik van een groot platform van 180 x 155mm, met een instelling van de rechterhand, in overeenstemming met de gebruikelijke werkgewoonten van de bevolking. Tijdens het gebruik van de gebruiker is het gemakkelijk om de beweging van het apparaat en het platform te focussen, om de gebruiker een efficiëntere werkomgeving te bieden. Compact Stabiel en zeer stijf onderwerp dat volledig weerspiegelt de anti-trillingsvereisten van microscopische werking.

De omgekeerde metafasemicroscoop is een traditionele type omgekeerde metafasemicroscoop, waarbij het monster het oppervlak naar beneden observeert en overeenkomt met het werkblad, terwijl de hoogte en paralleliteit van het monster geen vereisten zijn, geschikt voor onregelmatige of grotere monsters. De organisatie van verschillende metalen en legeringen kan worden waargenomen en geïdentificeerd, met een comfortabel en stabiel spiegelmechanisme, een efficiënt en gemakkelijk draagbaar ontwerp, een eenvoudige en snelle manier van bedienen, geschikt voor scholen en laboratoria van mijnbouwbedrijven voor lange tijden.

Kenmerken van het instrument:

Het omgekeerde metafaasmicroscoopsysteem combineert perfecte optische microscooptechnologie, geavanceerde fotoelektroconversietechnologie en geavanceerde computerbeeldverwerkingstechnologie om een ​​succesvol hightech product te ontwikkelen. Dynamische afbeeldingen kunnen eenvoudig in realtime worden bekeken op het scherm en de gewenste afbeeldingen kunnen worden bewerkt, opgeslagen en afgedrukt.

Technische parameters

1. Bril

2. Objecten

Optische vergroting: 50X 100X 200X 500X, systeem vergroting: 50X-2500X (met 19 inch scherm als voorbeeld)

Drie-oog observatiehoofd: 45 ° kanteling, 54-75 mm oogafstand, spectrale verhouding: 80: 20

5. Vier gaten converter: Inrichting bal positionering binnen

6. scherpstellingsmechanisme: laag handmatige coaxiale scherpstellingsmechanisme met 38 mm per draai; nauwkeurigheid van 0,02 mm

7. draagtafel: drielaags mechanisch bewegend platform, oppervlakte 180mmX155mm, rechterhand lage handcontrole, stroke: 75mm x 40mm

8. afvallend verlichtingssysteem: afvallend COLLA verlichtingssysteem, met variabele apertuur lichtbalk en centraal verstelbaar zichtveld lichtbalk, met een afspiegeling plug-in, vaste inspectie afspiegeling plug-in, 360 ° draaiende inspectie afspiegeling plug-in

9. voeding: adaptieve brede spanning 100V-240V, 6V30W halogeen lamp, continu verstelbare lichtsterkte

10. Uniek schimmelsysteem

4. Samenstelling van het instrument

Computertype (ZMM-550C): 1. microscoop 2. adapterspiegel 3. camera 4. beeldverzameling en verwerking 5. computer (optioneel)

Digitaal type (ZMM-550E): 1. Microscoop 2. Aanpasspiegel 3. Digitale camera

V. Aankoop

Bril: 15X 20X (met micrometer)

Objectief: 40x 60x 80x 100x (droog)

3. Software: Metalfase grafische analyse software Meetsoftware

Een bril:

Tweede: Objectief: